PRODUCT · 공정 08
T.D 코팅
고온 염욕 확산으로 형성하는 고경질 탄화물층
THERMAL DIFFUSION
개요
1973년 일본의 TOYOTA 자동차 중앙연구소에서 개발 실용화시킨 기술로서 고온(950~1050℃)의 용융 염욕 중에 처리하고자 하는 제품(금형)을 Dipping 시켜 확산의 원리를 이용, 제품의 표면에 고경질의 탄화물층을 형성시키는 피복 방법으로 내마모·내소착·내식성 등의 성질이 요구되어지는 자동차, 전자, 반도체, 건축 등의 모든 금형에 적용이 가능한 기술을 말한다.
T.D층의 형성원리
- 염욕 속의 탄화물 형성 원소의 원자(이온)이 모재 중의 탄소원자와 결합
- 탄소와 탄화물 형성 원소의 반응
- 모재 표면에 탄화물층을 형성
- 탄화물층으로 모재 중의 탄소의 지속적 공급
- 탄화물층의 성장
핵심 특징
01
피복층의 형성과 동시에 모재의 담금질 경화가 가능 (생재 상태에서 처리 가능)
02
층의 품질이 일정, 탄화물층의 조성·조직 및 성질은 모재 강종의 처리조건에 관계없음
03
형상에 관계없이 균일한 피복이 가능. 작은 구멍의 내면 피복까지도 가능 → 액체 염욕 속에 DIPPING 처리 방법
04
면조도의 변화가 없으므로 그대로 사용 가능 (단, Rmax 1㎛ 이상인 경우 다이아몬드 래핑이 필요)
05
탄화물층 두께 조절 가능 (1㎛/hr)
06
재처리가 가능 (3회 이상)
주요 적용 사례
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